EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
CMP абразив за полирање
| Место порекла: | Kina |
| Бренд Име: | Семикслаб |
| Број модела: | SXL-1 |
| Сертификат: | ИСО14001, ИСО45001, ИСО9001 |
| Минимална количина поруџбине: | Подложно преговорима |
| Цена: | Контакт за прилагођену понуду |
| Паковање Детаљи: | Стандардни пакет за извоз |
| Време испоруке: | 15-30 дана након потврде поруџбине |
| Услови плаћања: | Р / Т |
| Набавка способности: | 10 тона/месец |
Opis
CMP (хемијско-механичко планирање) абразив за полирање је кључни материјал у областима производње полупроводника, оптичког стакла, интегрисаних кола итд., и постиже изравнавање површине на нано нивоу синергијским ефектом хемијске корозије и механичког брушења.
Примена:
CMP абразиви за полирање су кључни материјали у области производње интегрисаних кола и могу се користити у интегрисаним колима ILD, полупроводничким монокристалним силицијумским плочицама, полупроводничком силицијум карбиду, плиткој изолацији рова интегрисаних кола (STI), полисилицијуму интегрисаних кола (Poly-Si), металима интегрисаних кола и металним баријерним слојевима.
Услуге које се могу пружити:
анализа сценарија примене код купаца, упаривање материјала, решавање техничких проблема.
Профил компаније:
Семикслаб има 2 лабораторије, тим стручњака са 20 година искуства у материјалима, са могућностима истраживања и развоја и производње, тестирања и верификације.
specifikacije
Индикатори учинка за производе серије ултра високе чистоће
| Параметар | SXL-1 | SXL-2 | SXL-3 | SXL-4 | SXL-5 | SXL-6 | SXL-7 |
| Просечна величина честица силицијум диоксида/нм | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± |
| Расподела величине наночестица (PDI) | |||||||
| пХ раствора | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 |
| Садржај чврстих материја/% | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± | КСНУМКС КСНУМКС ± |
| Изглед | Светло плава | блуе | бео | Офф-Вхите | Офф-Вхите | Офф-Вхите | Офф-Вхите |
| Морфологија честица X | X: S - сферно; B - закривљено; P - облика кикирикија; T - луковичасто; C - ланчасто (агрегирано стање) | ||||||
| Стабилизујући јони | Органски/неоргански амини | ||||||
| Састав сировине Y | И:М-ТМОС;Е-ТЕОС;МЕ-ТМОС+ТЕОС;ЕМ-ТЕОС+ТМОС | ||||||
| Садржај металних нечистоћа | ≤300ппб | ||||||
Примене
Главна поља примене
| Правац примене | Типичан сценарио |
| Полупроводници Мануфацтуринг | Чипови интегрисаних кола (ИЦ) и полупроводнички материјали треће генерације |
| Оптика и технологија приказа | Оптичко стакло, сочиво и панел дисплеја |
| Уређаји за складиштење | Плоче тврдог диска и 3D NAND флеш меморија |
| Напредно паковање | Паковање на нивоу плочице (WLP), TSV (кроз силицијум) |
| Друге врхунске апликације | MEMS (микро-електро-механички системи) и медицински имплантати |
Одобрење верификације еколошког ланца
Абразиви за полирање Semixlab CMP испуњавају стандарде полупроводничке индустрије и прошли су ISO 14001/45001/9001 сертификат
Типичан процес пријаве
Сировина → Абразивна синтеза (Модификација површине) → Формулација суспензије (Филтрација/подешавање pH) → Полирање CMP (EPD контрола) → Накнадно чишћење → Инспекција (AFM/KLA) → Оптимизација повратних информација о подацима
Кроз оптимизацију параметара процеса, абразив за полирање Semixlab CMP постигао је револуционарни напредак у области домаћих висококвалитетних полупроводничких интегрисаних кола, постепено замењујући увоз на тржишту полупроводника и успешно се примењује у производњи LCD, OLED и других дисплеја. Ако вам је потребна детаљна техничка документација или заказивање тестирања узорака, обратите се нашем тиму за техничку подршку.
Конкурентска предност
Предности абразивног језгра за полирање Semixlab CMP
а. Слободно подесиви пречник честица и степен агрегације честица;
б. Монодисперзне честице са уједначеном расподелом величине честица;
c. Стабилан систем дисперзије;
д. Производни капацитет великих размера са минималним варијацијама од серије до серије;
е. Веома стабилан, отпоран на агломерацију и седиментацију.
Naše usluge
Продавница производа Semixlab
Продавнице абразивних материјала за полирање Semixlab CMP
